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  • 该项目将成为欧洲首座碳化硅外延衬底(SiC epitaxial substrate)制造厂

  • 实现完全垂直整合,加强碳化硅组件及解决方案衬底供应,以助力汽车及工业客户迈向电气化并提升效率

服务多重电子应用领域、全球排名前列的半导体公司意法半导体(STMicroelectronics,简称ST;纽约证券交易所代码:STM)将于意大利兴建一座整合式碳化硅(Silicon Carbide;SiC)衬底制造厂,以支持意法半导体客户对汽车及工业碳化硅组件与日俱增的需求,协助其向电气化迈进并达到更高效率。新厂预计2023年开始投产,以实现碳化硅衬底的供应在对内采购及行业供货间达到平衡。

这座新碳化硅衬底厂比邻意法半导体位于意大利卡塔尼亚(Catania)现有的碳化硅组件制造厂,未来将成为欧洲首座6吋碳化硅外延衬底的量产基地,整合生产流程中所有工序。意法半导体也致力于下一步在此开发8吋晶圆。

本计划对意法半导体推动碳化硅业务垂直整合的策略来说,是极为关键的一步。这项在五年内投资7.3亿欧元的计划,将由意大利政府透过国家复苏暨韧性计划(National Recovery and Resilience Plan)提供资金援助,全面完工后可新增约700个直接就业机会。

意法半导体总裁兼首席执行官Jean-Marc Chery表示:“意法半导体正在推动其全球制造业务的转型升级,藉由提升8吋晶圆制造产能并强化专注于宽禁带半导体业务,以支持我们突破200亿美元营收的远大目标。我们将在卡塔尼亚扩大营运,这里不仅是我们功率半导体专业技术的中心,也通过与意大利研究机构、大学和供货商紧密的协力合作,整合了碳化硅的研究、开发与制造。这座新厂将成为我们碳化硅垂直整合的关键,强化我们的碳化硅衬底供应,协助我们提升产能,以支持汽车及工业客户迈向电气化并追求更高效率。”

意法半导体在碳化硅领域的先驱地位,得益于25年来专注于投入研发工作,同时拥有大量关键的专利组合。多年来卡塔尼亚一直是意法半导体重要的创新据点,也是其碳化硅研发及制造业务的最大基地,成功开发出许多新的解决方案,制造出更多、更好的碳化硅组件。通过构建起功率电子生态系统,包括意法半导体与不同利益相关方(大学、与意大利国家研究委员会相关的设备及产品制造商)之间长期且成功的合作关系、庞大的供应商网络,这项投资将巩固卡塔尼亚作为全球碳化硅技术创新中心的地位,并带来更多未来成长契机。

意法半导体先进的量产碳化硅产品STPOWER SiC,目前由位于卡塔尼亚及新加坡宏茂桥的晶圆厂进行生产,封装测试等后端制造则在中国深圳及摩洛哥的布斯库拉(Bouskoura)完成。基于上述制造实力,新碳化硅衬底厂的投资对意法半导体于2024年之前实现40%衬底来自内部采购的目标来说,无疑是一重大里程碑。

关于意法半导体

意法半导体拥有48,000名半导体技术的创造者和创新者,掌握半导体供应链和先进的制造设备。作为一家半导体垂直整合制造商(IDM),意法半导体与二十多万家客户、数千名合作伙伴一起研发产品和解决方案,共同构建生态系统,帮助他们更好地应对各种挑战和新机遇,满足世界对可持续发展的更高需求。意法半导体的技术让人们的出行更智能,电力和能源管理更高效,物联网和互联技术应用更广泛。意法半导体承诺将于2027年实现碳中和。详情请浏览意法半导体公司网站:www.st.com


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纳芯微宣布(NOVOSENSE推出NSD830x-Q1系列多通道半桥车规级驱动芯片,该系列产品包含NSD83088通道)和NSD83066通道)两款产品,内部均集成多通道半桥驱动和N-MOS功率级,支持多种负载类型。

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1:电机/LED/感性负载

如上图1所示,通过SPI配置,该款产品能够实现全桥与半桥驱动模式,支持直流有刷电机,双极性步进电机,继电器和LED等。在汽车系统中,该方案可被广泛应用于空调风门控制,电动后视镜与区域控制器。

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2:汽车热管理系统

NSD830x-Q1产品性能一览

- 工作电压范围较宽:4.5V-36V(耐压40V)

- 导通电阻(HS + LS):1.5 Ω

- 峰值电流1.3A/1.7A

- 支持时钟斩频功能以满足汽车EMI要求

- PWM生成器支持寄存器配置预设频率与占空比

- 负载诊断

- 欠压保护与过压保护

- 工作温度:-40°C~125°C

- AEC-Q100认证

- 封装形式:HTSSOP-24

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图3:NSD8306功能框图

NSD830x-Q1不但能够提供SPI接口与多通道驱动模式,为了使其能更灵活地支持多种负载,还额外配备了多种特色功能:

一、PWM生成器

NSD8308/NSD8306-Q1配备有PWM生成器,可以通过配置寄存器来调节PWM频率与占空比,对直流有刷电机进行调速,对LED进行调光,以此来降低主控芯片的工作负载,节约I/O资源。

PWM生成器能够支持80-2,000Hz的频率范围,8 Bit分辨率的占空比,即意味着该系列产品能够支持0-100%范围的占空比,0-255范围内的细分度变化。

在直流有刷电机的应用中,即使主控芯片不深度介入PWM生成器,电机负载也能够在PWM生成器的协助下实现软启动和调速功能,在LED负载的应用中实现简易PWM调光功能。如图4所示,当寄存器设置输出为100Hz,占空比为25%/50%/75%时,其对应通道能够精确匹配寄存器配置的频率与占空比。

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二、输出限流功能

电机与其他负载系统在设计时会在输出端并联小电容,可以减少电磁干扰,或是增强抗干扰能力,输出限流功能与传统过流保护功能相比,能确保输出级提供更长时间的峰值电流以支持容性负载。

NSD8308/NSD8306-Q1可同时对半桥上桥臂与下桥臂提供限流保护功能,当出现短路或过流现象,且负载电流超过芯片定义阈值时,输出即进入限流模式。与传统过流保护功能相比,限流功能对误报的容错率更高,避免容性负载或寄生参数导致的瞬态电流触发保护功能,影响设备正常运行。

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5:输出短路限流功能示意

三、负载诊断功能

智能汽车对整车系统负载工作状态的监控和诊断要求日益提高,NSD8308/NSD8306-Q1可提供智能负载诊断功能,用以车机系统判断负载连接状态,如果出现短路或者断路情况,外部控制器可以通过芯片内部的寄存器获取每个独立通道的状态信息。

该系列产品诊断功能可全面覆盖各种负载的工作状态,支持多种负载连接方式,包括:半桥,全桥,高边与低边。离线模式下(驱动输出为关闭状态),可帮助系统实现开路诊断,对电池短路诊断,对地短路诊断;在线模式下(驱动输出为工作状态),可实现开路诊断,限流保护功能。对应输出通道的状态与警报可以通过SPI获取对应寄存器上的信息,进而上报至主控制器。

免费送样

NSD830x系列产品均可提供样品,如需申请样片或订购可邮件至sales@novosns.com或拨打0512-62601802-810,更多信息敬请访问www.novosns.com

关于纳芯微

纳芯微电子(简称纳芯微,科创板股票代码688052)是高性能高可靠性模拟及混合信号芯片设计公司。自2013年成立以来,公司聚焦信号感知、系统互联、功率驱动三大方向,提供传感器、信号链、隔离、接口、功率驱动、电源管理等丰富的半导体产品及解决方案,并被广泛应用于汽车、工业、信息通讯及消费电子领域。

纳芯微以『“感知”“驱动” 未来,共建绿色、智能、互联互通的“芯”世界』为使命,致力于为数字世界和现实世界的连接提供芯片级解决方案。

如需了解更多纳芯微产品信息以及最新资讯,欢迎登陆官网:www.novosns.com

媒体垂询请联系:pr@novosns.com

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作者:泛林集团公司副总裁兼电介质原子层沉积产品总经理 Aaron Fellis

芯片已经无处不在:从手机和汽车到人工智能的云服务器,所有这些的每一次更新换代都在变得更快速、更智能、更强大。创建更先进的芯片通常涉及缩小晶体管和其他组件并将它们更紧密地封装在一起。然而,随着芯片特征变得更小,现有材料可能无法在所需厚度下实现相同性能,从而可能需要新的材料。

泛林集团发明了一种名为 SPARC 的全新沉积技术,用于制造具有改进电绝缘性能的新型碳化硅薄膜。重要的是,它可以沉积超薄层,并且在高深宽比的结构中保持性能,还不受工艺集成的影响,可以经受进一步处理。SPARC 将泛林无与伦比的等离子技术与化学和工艺工程相结合,实现了先进逻辑和 DRAM 集成设计的进一步发展。

提高逻辑器件性能

SPARC 的一个关键逻辑应用是 FinFET 间隔层。如下面的流程所示,间隔膜沉积在前置结构的栅极和鳍上。薄膜必须遵循现有结构的精确轮廓,并保持厚度一致(结构均匀性)。它还必须对下面的层具有出色的附着力,且没有针孔或其他缺陷。此外,除了在栅极侧壁的所需位置外,它还必须易于从其他任何地方移除。

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薄膜本身就有要求。随着晶体管按比例缩小,栅极模块中的电容耦合会增加,从而降低整体晶体管的性能。SPARC 碳化物薄膜是电绝缘性能更佳的新型材料的绝佳例子,即所谓的k薄膜,用于最大限度地减少这种耦合。现有的低k薄膜通常很脆弱,无法承受后续步骤中使用的强烈的化学物质,因而会导致整体芯片性能不佳。

泛林的 SPARC 技术可提供均匀、坚固的低k薄膜,其厚度和特征内部的成分都是均匀的。SPARC 薄膜被轻柔地沉积,没有直接的等离子体对下面的敏感器件造成损坏,它通过使用由具有远程等离子体和新型前驱体的独特反应器产生的自由基来实现。与直接等离子体增强原子层沉积 (ALD) 薄膜不同,它可以轻松调整薄膜成分,以更好地预防损坏,优化干法或湿法刻蚀的选择性。得到的薄膜很薄、无针孔,并且可以在芯片制造过程的其余环节保持正确的硅碳 (Si-C) 键合结构,从而保持其介电性能和坚固。

随着全包围栅极 (GAA) 架构的出现,泛林 SPARC 技术的价值变得愈加明显。新的内部间隔层应用需要一种材料来降低器件的寄生电容——即降低器件之间的干扰。该薄膜还必须在硅锗沟道释放过程中作为外延处理的源极/漏极的保护层。SPARC 沉积的薄膜为该应用带来了关键特性,包括低k值,均匀性,高图形负载,均匀厚度,对硅基、氧化物、碳类型材料的出色刻蚀选择性,以及器件中的极低泄漏。

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同样有利于 DRAM 架构

随着器件的微缩,工程师们不断努力减少位线和电容器触点之间的电容,以保持良好的信号/噪声进行位感应。位线深宽比的增加也使传统的沉积方法难以成功。位线电容的一个重要组成部分是位线和存储节点触点 (SNC) 之间的耦合,随着单位面积封装越来越多的器件以降低 DRAM 成本和增加密度,该耦合正在增加。为了减少这种耦合,自 1x nm 技术节点以来,SPARC 沉积的低k间隔材料至关重要。

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理想的低k薄膜

使用 SPARC 或单个前驱体活化自由基腔室技术制造的碳化硅氧化物 (SiCO) 薄膜具备密度大、坚固耐用、介电常数低 ~ 3.5-4.9、泄漏率低、厚度和成分共形性极佳等特点。 250°C  600°C 的广泛温度范围内,碳完全交联,末端甲基极少甚至没有,与其他薄膜(如SiOCSiOCN  SiCN)相比,该薄膜具有热稳定性和化学稳定性。

 SPARC SiCO 系列中,远程等离子体、独特的前驱体和工艺空间可实现广泛的成分调整。此外,这些 SPARC SiCO 薄膜在稀氢氟酸和热磷酸等典型湿法化学物质中的 WER(湿法刻蚀速率)为零,因此还提供近乎无限的湿法刻蚀选择性。这些薄膜也是连续的且无针孔的,厚度低于普通替代的一半。

由于这些特性,SPARC SiCO 薄膜在某些间隔物应用中实现厚度最小化,是个很有吸引力的选择。鉴于其对高深宽比堆栈材料的显著湿法选择性或等离子体损伤预防,这些薄膜能够形成气隙,减少电容耦合,并保护高深宽比堆栈中容易氧化或损坏的工艺元件。SPARC 技术已被领先技术节点的所有主要逻辑/代工厂和 DRAM 制造商采用。随着集成度和性能扩展挑战的提升以及深宽比的提高,下一个节点应用程序空间预计将增加。

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在 T-Mobile 携手 SpaceX 官宣了基于星链卫星的通讯合作之后,美国运营商 AT&T 现也确认正在开发自己的卫星覆盖服务。不同的是,AT&T 没有选择 Starlink 作为其应急移动网络的合作伙伴,而是打算利用 AST SpaceMobile 的卫星网络来构建这项扩展服务。

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截图(来自:AST SpaceMobile)

AT&T 将借助 AST SpaceMobile 的卫星网络,作为其蜂窝移动网络的一个互补选项。

推出初期,这项服务将仅限于应急响应(比如打通 FirstNet 网络)。

不过彭博社早前报道指出,后续该运营商也将能够使用卫星网络来帮助连接通信。

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资料图(来自:AST SpaceMobile)

该运营商向 Cnet 证实,AT&T 将于今年晚些时候在夏威夷和德克萨斯州开测其移动网络的卫星集成。

如果一切顺利、且在商业上可行,那两家公司有望敲定一个让人感到满意的套餐。

此外卫星连接将适用于 AT&T 现有的 LTE / 5G 频谱,意味着客户可能无需更换手机,即可受益于更广泛的卫星覆盖。

最后,AT&T 将继续与其它供应商合作,为其卫星和移动网络开辟其它特定用例,比如面向石油 / 天然气钻井平台的海上通讯服务。

来源:cnBeta.COM

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作者:Gartner研究总监曹梦琳

  • 中国企业在半导体制造价值链的某些环节取得了长足的进步,例如硅片、电子特气、刻蚀和沉积设备、化学机械抛光(CMP)和清洗设备以及成熟制程半导体器件制造等。

  • 中国政府的资金投入和产业政策正在不断推动中国半导体制造技术和国内生态体系的发展与演变。

  • 中国厂商仍然缺乏制造先进工艺节点芯片的关键技术能力,包括先进材料、高端光刻机、工艺控制设备以及最先进制程的工艺技术。

中国的半导体制造技术和市场过去10年一直在快速发展和增长。许多新兴本土企业已进入半导体制造材料和晶圆制造设备领域,推动了本土生态体系的发展。但不可忽视的是,中国企业在整个先进半导体制造价值链方面仍明显落后。

另外,目前全球半导体制造供应链由于疫情、地缘政治等各种原因而充满不确定性并且十分脆弱,迫使中国进一步提高国内的自给自足水平。

中国企业在半导体制造材料、晶圆制造设备和器件制造工艺技术领域的某些环节取得了显著的进步。越来越多的本土企业可以支持成熟制程的半导体制造, 从而扩大了半导体制造商可选择的国内供应商范围。政府的资金投入和产业政策也在不断支持半导体制造价值链上的国内企业增加研发投入、降低成本,推动了本土供应链的发展。

另外,全球供应的不确定性与中断给芯片制造商带来了额外的风险、成本和更长的上游交货期,这将刺激本土采购的增加。

但中国厂商在半导体制造的先进材料、高端光刻设备和最先进制程器件制造工艺方面仍然缺乏关键技术能力。另外,美国的各种出口限制措施(导致全球供应中断的原因之一)进一步制约了中国本土先进半导体制造技术能力的发展。

我们估计,到2027年,在中国28纳米以上成熟制程节点(包括传统制程节点)半导体制造中,来自国内厂商的关键原材料和关键晶圆制造设备的数量比例将超过50%(见图1)。中国先进制程节点半导体制造的本土化程度继续提高,但速度远不如成熟制程节点制造,其本土化需要国内厂商付出更多的努力。

1:影响中国半导体制造业本土化趋势的因素

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半导体制造价值链上的中国企业在成熟制程节点芯片制造上取得了长足的进步

在硅片、电子特气、CMP材料等一些半导体制造材料环节,中国企业已经能够支持成熟制程节点芯片制造。在沉积、刻蚀、离子注入、CMP、清洗等主要的半导体制造工艺中,中国设备商可以在部分工艺步骤中支持28纳米,甚至14纳米制程节点制造。一些产品可以在部分工艺步骤中支持5纳米制程节点。中国的材料和设备供应商可以抓住半导体制造商扩大晶圆厂产能的机会,提高自己在成熟制程节点制造领域的市场份额。

为了降低全球供应链中断的风险,中国半导体制造商将加快验证流程,增加从国内供应商采购的材料和设备,这将进一步推动本土生态体系的发展。

政府资金投入和产业政策正在推动中国半导体制造技术的发展

中国政府为半导体制造业设立了专项投资基金并出台了多项产业政策。这些行动直接推动了本土半导体制造技术研发和生态在过去十年不断壮大。

中国集成电路产业投资基金(CICIIF)帮助越来越多的本土企业进入到供应链的各个环节,鼓励半导体制造商验证和测试国内材料与设备,这将进一步增加本土采购。

中国政府在过去几年已出台了多项政策来促进中国半导体产业的高质量发展。这些政策涵盖了税收、投资、研发和人才等各个领域,从不同角度加快中国半导体产业的发展。其中的一项措施降低制造原材料、晶圆制造设备和芯片制造领域部分企业的企业所得税,起到了立竿见影的效果。该措施有助于大幅降低国内企业的成本,给这些企业带来竞争优势。

中国企业在先进半导体制造方面仍然缺乏关键技术能力

中国厂商仍然缺乏先进光刻胶、高端光刻设备和最先进制程器件制造工艺方面的关键技术能力。并且情况变得更加严峻,考虑到最近地缘政治的影响。中国半导体制造在最先进制程节点上将会实现本土化,但还需要等待很长的时间。

关于Gartner

Gartner(纽约证券交易所代码:IT)为高管及其团队提供可执行的客观性洞察。 我们的专业指导和各类工具可以帮助企业机构在最关键的优先事项上实现更快、更明智的决策以及更出色的业绩。 欲了解更多信息,请访问http://www.gartner.com/cn

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作者:电子创新网张国斌

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彭博社认为拜登政府宣布了对中国获取美国半导体技术的新限制,使两国之间的紧张关系升级,为一个因需求下滑而陷入困境的行业增添了新的麻烦。这些措施的目的是阻止中国政府推动发展自己的芯片产业。这些措施包括限制用于人工智能和超级计算的某些类型的芯片的出口,同时也收紧了向任何中国公司出售半导体制造设备的规定。

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笔者认为,很明显, 美国为了全面遏制中国的半导体技术发展,已经不惜动用各种手段了,而且,美国试图将中国半导体发展锁死在14nm节点,在这个细则中,有关于限制美国人支持在中国某些地方开发或生产集成电路的能力。限制美国人在没有许可证的情況下支持在某些位于中国的半导体制造"设施"开发或生产集成电路。--这个杀伤力太大了,大家可以细品。

如果需要本细则详细文档可以后台留言给我。

风雨欲来本土半导体人努力啊!

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数字化时代,数据存储、计算、传输和应用需求成为新的驱动力,云服务、高性能计算等高端芯片都离不开底层IP的加持,其中尤以DDR技术、Chiplet、高速 SerDes为重中之重。面向HPC常用的CPU/GPU/DPU/NPU等高算力SoC场景,芯动科技推出以高性能计算“三件套”为核心的共性IP平台。

芯动高性能计算“三件套”包括全球顶尖的全系高端DDR系列、首个兼容UCIe标准的Innolink™ Chiplet系列、国内领先的SerDes(PCIe6/5)系列,可全栈式协助客户优化高性能计算、AI和图形应用等系统芯片SoC上严苛的性能、功耗和成本目标,极大提高了SoC研发效率,降低风险,为数字时代算力需求升级提供有力支持。

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业界前沿的高性能计算“三件套”IP解决方案

HPC IP “三件套”是芯动科技16年深耕高性能高可靠IP的最新成果,具有3大显著优势:一是性能高端,不管DDRSerdes还是Chiplet,芯动的性能都是全球领先的,接口覆盖最全的;二是高端工艺验证,高端10nm/8nm/7nm/6nm/5nm/3nm都已开发验证完成并授权客户量产;三是跨平台,保证生产安全,芯动IP在台积电/三星/格芯/联华电子/英特尔/中芯国际/华力等各大主流代工厂均流片验证,已授权全球数十亿颗高端SoC芯片量产,可加快SoC开发并降低风险。

全系高带宽DDR存储接口解决方案,打破内存墙

在突破内存墙技术上,芯动拥有全球顶尖的全系高端DDR存储接口解决方案。不仅率先突破10Gbps,以先进工艺量产全球速率最快LPDDR5/5X Combo IP;还首发了全球速度最高的GDDR6/6X Combo IPPAM4-21Gbps),同时兼容HBM3.0/HBM2eCombo IP,运行速率高达7.2Gbps所有高端DDR系列IP都可提供PHY和Controller整体解决方案,且都已经在先进工艺量产测试,全面支持JEDEC各种标准,在性能和稳定、尺寸和功耗、兼容更多协议、应用场景优化、易用和集成等方面均表现超群,可助力CPU/GPU/NPU高性能计算、汽车自动驾驶、移动终端等高性能应用性能突破。

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芯动LPDDR5X(单比特DQ达10Gbps)在长距PCB板上的实测波形

兼容UCIe Chiplet解决方案,突破单芯片性能极限

针对时下热门的Chiplet技术,芯动首发国产跨工艺、跨封装的Chiplet连接解决方案-Innolink™ Chiplet,率先实现兼容UCIe两种规格(Innolink-B/C),助力芯片设计企业和系统厂商突破单晶粒制造极限及单一芯片性能瓶颈,已在先进工艺上成功量产。该方案不仅支持标准封装和先进封装,还可以支持短距PCB场景,在多种应用场景下,具备低延时、低功耗、高带宽密度以及超高性价比的优势。涵盖D2D、C2C、B2B等连接场景,提供封装设计、可靠性验证、信号完整性分析、DFT、热仿真、测试方案等全栈式服务。

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▲Innolink™ Chiplet A/B/C实现方法

高速SerDes全套解决方案,打通信息高速公路

芯动32/56/64G SerDes全套解决方案在速率、各种接口标准种类、硅验证覆盖率等重要指标上均已处于国际前沿,包含了PCIe6/5(向下兼容PCIe4/3/2)、USB3.2/3.0SATAXAUISATARapidIOCXL2.0最新112G SerDes也正在加紧开发中,高兼容、低成本、高性能、高可靠,提供一站式无忧集成,灵活定制Retimer 和Switch交换芯片,为5G通信、自动驾驶、人工智能、大数据存储、云计算、高性能图像媒体处理、万物互联等应用。

是德科技大中华区市场总经理郑纪峰表示:“是德科技与芯动合作多年,双方均致力于帮助客户克服端到端的挑战,是德科技提供基于磷化铟半导体工艺的高性能测试设备,从验证、一致性测试、到规格评估,全面推动芯动科技HPC IP “三件套” 的技术创新,在高性能计算领域,助力开发者优化和提升下一代系统芯片的性能,加速产品上市。”

芯动科技技术总监高专指出:“芯动在高性能IP和芯片定制上钻研了16年,深谙芯片IP发展规律。芯动技术不仅性能高端,尤其是全系DDR技术、兼容UCIe的Chiplet、PCIe5.0/6.0等高性能计算“三件套”处于国际顶级,和全球知名厂商均有合作;而且在先进工艺上快人一步,一站式覆盖全球各大主流代工厂工艺节点,全球两大5nm工艺线认证的官方技术合作伙伴,拥有200次先进工艺流片和60亿颗高端SoC授权量产记录,是业界极富口碑的IP和定制服务老牌厂商。”

关于芯动:

芯动科技(Innosilicon)是中国一站式IP和芯片定制赋能型领军企业,聚焦计算、存储和连接等三大赛道,提供跨全球各大工艺厂(台积电/三星/中芯国际/格芯/英特尔/联华电子/华力),从55纳米到3纳米全套高速混合电路IP核和ASIC定制解决方案。公司成立16年来,已授权支持全球逾60亿颗高端SoC芯片进入大规模量产,经过数百次流片打磨,拥有百分百一次成功的业界口碑和百万片晶圆授权量产的骄人业绩;是全球两大5纳米工艺线认证的官方技术合作伙伴,并率先完成3nm设计 ;连续12年市场表现突出,持续盈利。客户群涵盖瑞芯微、全志、君正,以及AMD、微软、亚马逊、高通、安盛美等数百个国内外知名企业。风华系列GPU通过不断升级内核,打造体验流畅的高性能GPU处理器,是目前国内支持框架多、延展性好、可靠性强的高性能GPU产品。风华采用了芯动全套自研高端IP,如LPDDR5X/5/4和GDDR6/6X显存技术、HDMI2.1/eDP/VGA高清接口技术,以及物理不可克隆PUF安全技术,广泛支持4K级图形渲染服务器和桌面产品。

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全球AI软件公司、AI Virtual Smart Sensor™的领导者Elliptic Labs (OSE: ELABS),已与全球第三大智能手机制造商小米续签了一份全新协议。新合同将使小米能够在即将推出的多款智能手机中继续使用Elliptic Labs的AI Virtual Proximity Sensor™ INNER BEAUTY®作为其接近感应解决方案。

Elliptic Labs的首席执行官Laila Danielsen女士表示:“小米决定与我们再度携手,充分展现了我们长期共同见证历史的创新精神。我们的 AI Virtual Smart Sensor Platform™一直为小米的智能手机设计创造出色且极具影响的核心竞争力,我们期待在未来能够取得更大的胜利。共同开发更环保、更安全、更智能设备的相似愿景将促使我们与小米持续保持强大的合作伙伴关系。”

AI Virtual Proximity Sensor INNER BEAUTY (AI虚拟接近传感器)

Elliptic Labs的AI Virtual Proximity Sensor在用户将智能手机举到耳边接听电话时,关闭智能手机的显示,并禁用屏幕的触摸功能。如果没有这种检测距离的能力,用户的耳朵或脸颊可能会在通话过程中意外触发不必要的动作,比如挂断电话或在通话中误拨号。自动关闭屏幕也有助于节省电池寿命。接近检测是当今市场上所有智能手机的核心功能。

Elliptic Labs的AI Virtual Proximity Sensor可以在不需要专用硬件传感器的情况下实现稳定的接近检测功能。通过将硬件传感器替换为软件传感器,AI Virtual Proximity Sensor不仅可以降低设备成本,还可去除采购上的风险。

关于Elliptic Labs

Elliptic Labs 是一家面向智能手机、笔记本电脑、物联网和汽车市场的国际企业。公司成立于2006年,衍生自挪威奥斯陆大学 (Oslo University) 的一家分支研究机构。公司的AI专利软件结合了超声波和传感器融合算法,提供直观的3D无接触手势交互、接近感应和存在检测功能。其可扩展的AI虚拟智能传感交互平台创造了可持续性的、生态友好的纯软件传感器,并已有上几亿台设备搭载其技术。Elliptic Labs是市场上唯一一家使用AI软件、超声波和传感器融合进行大规模商用的软件公司。公司在奥斯陆证券交易所 (Oslo Børs) 上市。

Elliptic Labs公司总部设在挪威,在美国、中国、韩国、中国台北和日本均有分支机构。Elliptic Labs的技术和专利在挪威开发,归属公司专有。

在 businesswire.com 上查看源版本新闻稿: https://www.businesswire.com/news/home/20221002005102/zh-CN/

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动化成功平台将自动化和人工智能带给企业每一位员工

创新包括AARI for Every AppProcess DiscoveryDocument AutomationCitizen DevelopmentAutomation Pathfinder Program 

2022年10月6日,云原生智能自动化领域的第一位领导企业Automation Anywhere, Inc.Imagine 2022推出了自动化成功平台(Automation Success Platform),旨在通过让每个人都能使用自动化来加速业务转型。

Gartner预计,到2030年,Automation将为全球经济带来15万亿美元的利益。如今,每家公司都在自动化经济领域开展业务,95%的组织都在拥抱自动化。然而,德勤的一项研究表明,只有13%的公司能够扩大其自动化工作,往往难以定制通用型自动化工具和内部平台。

Automation Anywhere首席执行官兼联合创始人Mihir Shukla表示:"世界领先的公司正在采用自动化和人工智能来释放新的机会、吸引员工并适应市场变化。自动化成功平台将智能自动化带给每位员工,并赋能IT和自动化领导者来扩大成功。"

动化成功平台赋能每个人来重新构想工作
自动化成功平台推出新的自动化工具,通过员工喜爱的应用程序为他们赋能。

  • AARI for Every App为每位员工赋能。AARI是每位员工的自动化协作工具,让他们在使用其最喜欢的应用程序时能够与机器人互动,从而更轻松、更快速地完成工作。AARI现在可以嵌入任何网络应用,如Salesforce和Genesys,还能嵌入语音和IVR(互动式语音响应)。

  • New Process Discovery了解自动化的下一步方向。Automation Anywhere扩展了最近对FortressIQ的收购,推出了Process Discovery,并将其作为自动化成功平台的一部分。该功能利用人工智能的力量,在企业的所有系统、工具和流程中快速确定和发现最大的ROI自动化机会,帮助自动化工具发现下一个实现自动化的领域和途径。

  • New Document Automation简化文件管理 New Document Automation可轻松从文件中提取数据并将其传输到任何应用中。公司可以选择使用Automation Anywhere的预培训AI模型,或选择另一种单项最优AI,如Google Document AI和Microsoft Azure Form Recognizer,为其自动化助力。无论是哪一种方式,Document Automation都会在员工的工作流程中与员工互动,持续变得更加智能。

  • CoE领导者加速新应用自动化。Automation Anywhere与Shibumi合作推出了新的CoE Manager ,帮助CoE领导者在中央指挥中心完成建设、监控和扩展。用户可以管理所有内容,包括创意提交、ROI评估管理和访问控制。 新的Citizen Development提供了一套新的功能,为所有公民开发者提供简化的建设者体验以创建自动化,同时提供确保创新符合商业规则和标准的治理功能。

  • Automation Pathfinder Program扩展成功,该功能利用数百万自动化用例中20年的自动化经验,提供一个完整的成功框架,包括最佳实践、合作伙伴的专家服务、社区资源和产品创新。

支持性评论:

Columbia Sportswear动化主管Dev Gulati表示:"动化业务流程为我们提供了业务增长和蓬勃发展所需的杠杆和规模。与Automation Anywhere合作让我们能够建立一支始终在线,并与我们最宝贵的资本——员工配合工作的数字员工队伍,专注于为我们的消费者增加价值并提供更好的产品和体验。"

Humana动化总监Joe Bechtel表示:"过扩展自动化,我们提高了团队为成员增加价值的能力,同时也为数字化转型提供了推动力。此外,建立数字员工队伍让我们的员工有精力开发新的创新产品和服务,从而改善患者体验。"

Bain绩效改进实践领域的专家合伙人Ted Shelton表示:"们对数字转型计划的研究表明,只有12%的公司实现了预期的结果。成功的关键之一是各组织将自动化深度集成到其数字化转型工作中。在Bain,我们特别关注为实现成功编排正确的计划;努力加速和扩大这些努力。像Automation Pathfinder这样的计划具有重要作用,为组织在其数字转型中取得成功奠定了基础。"

IDC副总裁Maureen Fleming表示:"业迫切需要加速转型和扩大自动化规模,从而节省更多的时间和成本。能够高效突破障碍,以敏捷、安全的方式扩展自动化的解决方案才能解决这些挑战,并永远改变我们的工作方式。"

关于Automation Anywhere

Automation Anywhere是第一个云自动化平台,为各行业提供自动化和流程智能解决方案,实现端到端业务流程自动化,为企业转型提供捷径。公司提供全球唯一的云原生平台,该平台结合了RPA、人工智能、机器学习和分析,可实现重复性任务自动化并构建企业敏捷性,从而可解放人员,让他们注重下一个重大构思,建立更密切的客户关系,推动企业增长。有关更多信息,请访问www.automationanywhere.com。Automation Anywhere是Automation Anywhere, Inc.在美国和其它国家/地区的注册商标/服务标记。

稿源:美通社

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融合业界一流的快速充电性能与更高的安全性

美蓓亚三美株式会社(MinebeaMitsumi Inc.)旗下的艾普凌科有限公司(ABLIC Inc.,总裁:石合信正,总部:东京都港区,以下简称“ABLIC”) 今天推出S-82Y1B系列单节电池保护IC,为世界顶级(*1)的充电/放电过电流检测电压精度±0.5mV (*2)。

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今天推出的新品S-82Y1B系列单节锂离子电池保护IC是S-82P1系列的升级版。 (1) 将充电/放电过电流检测电压精度从S-82P1系列的±0.75mV提高至±0.5mV的世界顶级精度,并可在降低电流检测电阻的同时抑制过电流检测的变化,(2)提供三段放电过电流保护,每段都确保业界一流的精度,能够将异常电流降低到更安全的水平,并且(3)具备业界一流,高达±15mV的过充检测电压精度。

上述特点使IC甚至在充电电流值增大时,也可抑制保护电路板的发热。具备将异常电流降低到更安全水平的能力,以及高精度的过充检测性能可显著提高产品的安全性。完整的产品阵容可为客户提供所需的产品。

(*1) 根据本公司截至2022年10月的研究
(*2) 与本公司以往产品比较减少33%

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Example of a 1-cell protection circuit using the S-82Y1B series

[主要特点]

  1. 实现了世界顶级的充电/放电过电流检测电压精度±0.5mV!

  2. 三段放电过电流保护确保更高的安全性!

  3. 过充检测电压精度高达±15mV,跻身业界顶级的高精度行列!

[应用案例]

锂离子可充电电池组、锂聚合物可充电电池组

[产品应用示例]

智能手机、平板电脑、智能手表等

 

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[产品详情]

[网站]

https://www.ablic.com/

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该产品系列是MinebeaMitsumi绿色产品 ,已获得杰出环保贡献产品认证。

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