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华大九天

韦尔股份采用华大九天Empyrean Polas®保障芯片设计可靠性

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北京华大九天科技股份有限公司近日宣布,豪威集团-上海韦尔半导体股份有限公司已采用华大九天的Empyrean Polas®工具作为其可靠性分析解决方案,更大限度保障分立器件和电源芯片的设计可靠性及设计合理性。

从工艺妥协到设计自由:华大九天Optimus的面板光刻校正方案

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设计构想与光刻实现之间的落差,是高端显示行业长期面临的现实困境。传统校正能力的上限,持续制约着高PPI、异形与极窄边框产品的迭代。随着Optimus在面板领域实现量产导入,这一局面正在被彻底改写:打破 "设计迁就工艺" 的固有模式,重构大屏光刻设计-制造逻辑,释放下一代显示的创新潜力。

良率攻坚战的“导航仪”:华大九天Vision CA助力先进制程Care Area精准提取

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在半导体工艺持续向先进制程演进的过程中,良率已从单纯的生产指标,升级为衡量芯片设计、制造工艺与质量管控综合能力的核心生命线。