村田制作所总裁到访芯和半导体,战略协同共启“芯片到系统”新生态

近日,村田制作所 Murata Manufacturing 总裁中岛规巨率高层代表团访问芯和半导体上海总部。双方围绕AI时代电子系统设计的新趋势,就深化战略合作、推动系统级协同优化等议题进行了深入交流,并达成重要共识。

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行业变局:从“单点最优”到“系统协同”

以大模型和生成式AI为代表的新一轮技术浪潮,正在驱动算力基础设施对高带宽、低延迟、高能效和高可靠性的要求快速升级,传统的“先设计芯片,再选型元器件,最后调试系统”的串行模式,已无法应对AI系统在信号完整性(SI)、电源完整性(PI)及电磁兼容(EMI)方面的系统性挑战。元器件不再是孤立的物料清单(BOM),而是系统架构中至关重要的变量。电子系统的性能瓶颈正从单一芯片转向系统级集成与协同优化,系统级设计STCO成为行业发展的关键方向。

芯和半导体作为国内系统级EDA的代表,长期致力于电磁、多物理场及系统级仿真技术创新,构建覆盖芯片、先进封装、PCB到整机系统的统一仿真平台,将设计边界从单一芯片扩展至整个系统架构,为AI时代高性能计算系统提供STCO关键设计支撑。

村田制作所是全球领先的电子元器件制造商,在MLCC、射频模块及EMI抑制等领域具有深厚积累,其产品是AI系统稳定运行的“毛细血管”,在高性能计算与高速通信系统中发挥着不可替代的作用。

值得一提的是,村田早已前瞻性地布局了与芯和的生态融合,目前已为全球高性能芯片客户提供了基于芯和Hermes仿真平台的加密模型。这一先行举措,不仅验证了双方技术的高度兼容性,也为此次战略合作升级奠定了坚实的应用基础。双方此次的联手,实质上是将EDA的“虚拟仿真”与元器件的“物理实体”进行了深度对齐。

经过深入交流,双方达成

两项核心共识和四大维度生态共建

核心共识:加速系统级设计转型

▶ 全栈协同是生存刚需

在AI超高速互连场景下,芯片、封装、系统之间已形成紧密的电磁耦合。任何环节的割裂设计,都可能导致系统级失效。

▶ 模型即资产

元器件的高精度模型是系统仿真的基石。EDA工具与元器件模型的无缝融合,是提升设计效率、规避物理风险的关键。

战略合作落地:四大维度共建生态

▶ 打造“EDA+器件”联合解决方案

结合芯和半导体在电磁/多物理场仿真领域的算法优势,与村田在高频高速器件上的技术积累,共同推出面向AI服务器、光模块及先进封装的系统级SI/PI/EMI解决方案,解决客户在系统调试中的“黑盒”难题。

▶ 深化高精度模型协同

在现有合作基础上,进一步升级元器件模型与系统仿真的深度融合,实现从建模、仿真到优化的全流程数字化闭环,大幅提升设计的准确性与一次成功率。

▶ 关键客户协同拓展

面向全球AI服务器、先进封装与高性能系统厂商,开展联合技术支持与业务拓展,打通从芯片设计到系统集成的技术堵点。

▶ 全球生态品牌共建

在全球范围内加强技术交流与市场协同,强化在“系统级设计”领域的领航者形象,共同推动产业发展。

领航AI硬件的“确定性”未来

此次村田制作所总裁的到访,不仅是一次高层互访,更是产业链上下游对“系统设计”这一赛道的共同奔赴与深度实践。

未来,双方将充分发挥各自在EDA技术与电子元器件领域的优势,共同推动电子系统设计从“芯片优化”迈向“系统优化”,为AI时代的算力基础设施提供更加高效、可靠的技术支撑。

来源:芯和半导体Xpeedic