作者：电子创新网张国斌
8月19日，A股上市公司中微公司（688012）发布2026年半年度业绩报告，其中，净利润28.25亿元，同比增长300.22%。
财报显示， 2026年上半年，中微半导体设备(上海)股份有限公司实现业绩大幅增长，多项核心财务指标呈现爆发式变动，其中归属于上市公司股东的净利润同比增幅达300.22%，筹资活动产生的现金流量净额同比增幅达884.98%，业绩增长背后的非经常性损益占比偏高，投资者需警惕盈利可持续性风险。
2026年上半年公司实现营业收入66.91亿元，较上年同期的49.61亿元同比增长34.89%。营收增长主要源于高端刻蚀设备新增付运量显著提升，先进逻辑器件和先进存储器件的关键刻蚀工艺实现大规模量产，核心主业的市场拓展能力持续释放。
报告期内归属于上市公司股东的净利润达28.25亿元，较上年同期的7.06亿元同比大增300.22%，但该增长并非完全来自主业经营：其中约9.53亿元来自出售拓荆科技股份产生的投资收益，约10.29亿元来自对外股权投资的公允价值变动收益，合计非经常性损益达17.03亿元，占当期净利润的60.28%，主业造血能力的真实性有待观察。
扣除非经常性损益后，公司归属于上市公司股东的净利润为11.23亿元，较上年同期的5.39亿元同比增长108.36%，该增速远低于归母净利润300%的增幅，反映出主业盈利的实际增速远低于账面净利润表现，投资收益对业绩的拉动作用十分显著。
中微公司是中国半导体高端设备领域的龙头企业，专注于为集成电路和泛半导体行业提供关键的微观加工设备。它的核心使命是攻克芯片制造中“卡脖子”的关键环节，是国产半导体设备自主化的中坚力量。公司成立于2004年5月31日，2019年7月22日登陆上交所科创板，创始人尹志尧博士拥有三十余年半导体设备行业经验。
中微公司的业务主要由三部分构成，共同驱动其高速发展：
刻蚀设备：公司的"压舱石"
这是中微最核心、最成熟的产品线，覆盖从65纳米到3纳米及更先进制程的众多刻蚀应用。其关键技术突破包括超高深宽比刻蚀，例如60:1的设备已在存储器产线稳定量产，下一代90:1及140:1的设备也已在客户端验证。截至2026年6月底，公司累计已有超过8800个反应台在国内外220余条生产线实现量产。
薄膜沉积设备：业绩增长的"新引擎"
这是中微近年来重点发力的业务，已成功开发出LPCVD、ALD、EPI等多种核心设备。该业务在2025年迎来爆发式增长，全年营收同比大增224.23%，成为公司业绩增长的重要新引擎。
MOCVD设备：泛半导体领域的"冠军"
中微的MOCVD设备在全球氮化镓基LED市场占据领先地位，并已向更前沿的Mini/Micro LED、功率器件等领域拓展。
中微公司目前正处于高速发展期，其业绩体现了高技术门槛行业的典型特征：高增长与高研发投入并行。2025年全年实现营业收入123.85亿元，同比增长36.62%；归母净利润21.11亿元，同比增长30.69%，业绩创历史新高。
2025年公司研发投入高达37.44亿元，占营收比重超过30%，远高于科创板平均水平，为新设备开发提供强力支撑。公司人均年销售额超450万元，与国际领先设备公司持平，展现了极高的运营效率。
中微公司的长期战略目标是成为全球第一梯队的半导体设备公司，并为此制定了清晰的路径：平台化发展：通过"有机生长"（自主研发）与"外延拓展"（并购合作）相结合，目标是五年内覆盖60%以上的集成电路关键设备市场。近期收购CMP设备公司杭州众硅，正是其补全湿法设备版图的关键一步。除集成电路外，公司也在积极布局先进封装、功率器件、大平板显示（如OLED 8.6代线PECVD设备）等新市场。
远期目标是到2035年，在规模、产品竞争力和客户满意度上成为全球第一梯队。
