X-FAB为180纳米XH018工艺新增隔离等级，提升SPAD集成能力 winniewei / 周一, 23 六月 2025 - 11:18 全新ISOMOS1模块实现更高填充因子和更小面积需求 阅读更多 关于 X-FAB为180纳米XH018工艺新增隔离等级，提升SPAD集成能力登录 发表评论
DB HiTek 完成了全局快门和 SPAD 技术开发，将进一步拓展图像传感器 winniewei / 周五, 16 四月 2021 - 10:39 DB HiTek宣布， 公司已开发出基于110纳米的全局快门（global shutter）和单光子雪崩二极管 (SPAD:single-photon avalanche diode)工艺，并将扩展其图像传感器市场。 阅读更多 关于 DB HiTek 完成了全局快门和 SPAD 技术开发，将进一步拓展图像传感器登录 发表评论
X-FAB对其180nm APD和SPAD器件进行重大改进，提升光子探测性能并增加其有源区面积 winniewei / 周四, 4 二月 2021 - 13:53 全球公认的卓越光电解决方案制造商X-FAB Silicon Foundries（“X-FAB”）今日宣布，推出最新一代的雪崩光电二极管（APD）和单光子雪崩二极管（SPAD）器件。 阅读更多 关于 X-FAB对其180nm APD和SPAD器件进行重大改进，提升光子探测性能并增加其有源区面积登录 发表评论
