ICP

中微公司发布双反应台电感耦合等离子体刻蚀设备Primo Twin-Star（R）
中微半导体设备（上海）股份有限公司在SEMICON China 2021期间正式发布了新一代电感耦合等离子体（ICP）刻蚀设备Primo Twin-Star®，用于IC器件前道和后道制程导电/电介质膜的刻蚀应用。