应用材料公司推出全新Ioniq™ PVD系统助力解决二维微缩下布线电阻难题 winniewei / 周五, 27 五月 2022 - 16:26 应用材料公司宣布推出一种全新系统,可改进晶体管布线沉积工艺,从而大幅降低电阻,突破了芯片在性能提升和功率降低两方面所面临的重大瓶颈。 阅读更多 关于 应用材料公司推出全新Ioniq™ PVD系统助力解决二维微缩下布线电阻难题登录 发表评论