利用独特的版图编辑和验证功能,化解 MEMS 设计挑战 — 第 1 部分

winniewei 提交于 周四, 05/03/2018
利用独特的版图编辑和验证功能,化解 MEMS 设计挑战 — 第 1 部分

MEMS 版图与 IC 版图之间的一大区别在于是否能使用独特的不规则形状。在传统的 CMOS IC 设计中,版图形状通常是曼哈顿样式(例如矩形和直角多边形)或具有用于布线的 45 度边的多边形;而 MEMS 设计则与之不同,其可广泛应用于机械、光学、磁、流体和生物学领域,因而所使用的几何形状也就千变万化,较为繁复。

本白皮书将分两部分阐述,为什么说支持实现不规则形状(包括曲线和全角多边形)和轻松使用这一实现,是区分面向 MEMS 的 CAD 工具与传统的面向 IC 的工具的关键标准。(第 1 部分重点介绍版图编辑;第 2 部分重点介绍验证)。

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