良率95%!中芯国际14nm工艺有重大进展

winniewei 提交于 周五, 02/15/2019
良率95%!中芯国际14nm工艺有重大进展

作者:张国斌

2月14日——中芯国际(SMIC)在今天公布的2018 Q4财报中透露了先进工艺重大进展,中芯国际称“目前中芯国际第一代FinFET14nm技术进入客户验证阶段,产品可靠度与良率已进一步提升。同时,12nm的工艺开发也取得突破。”

该财报还透露2018年第四季度中芯国际销售额为7.8756亿美元,比三季度略有下降,与2017年第四季度基本持平。2018年第四季毛利率为17.0%,相比2018年第三季为20.5%,比2017年第四季的18.9%略有下降。

中芯国际联席CEO梁孟松博士指出:“我们努力建立先进工艺全方位的解决方案,特别专注在FinFET技术的基础打造、平台开展以及客户关系的搭建。目前中芯国际第一代FinFET14nm技术进入客户验证阶段,产品可靠度与良率已进一步提升。同时,12nm的工艺开发也取得突破。透过研发积极创新,优化产线,强化设计,争取潜在市场,我们对于未来的机会深具信心。”

另据坊间传闻中芯国际14nm工艺今年将大规模量产,其芯片良品率已经达到95%,这个良率水准属于比较成熟工艺水平,而且其主要订单来自手机领域,估计是本土手机厂商订单。

2018年10月,台积电南京厂宣布量产16nm工艺大规模量产,同时向12nm工艺升级,所以中芯国际的14nm工艺在大陆仍属于领先工艺,不过与台积电相比,还落后两代(中间有12nm/10nm,7nm),目前台积电已经大规模量产7nm工艺,华为的麒麟980,高通的骁龙855已经苹果的A12都采用了7nm工艺技术,台积电透露明年向5nm迁移,所以中芯国际的与台积电工艺相比还是有落后但已经缩小了差距。

去年,中芯国际还向荷兰ASML(阿斯麦)订购了一台EUV极紫外光刻机,预计今年初交付。中芯国际也表示,在本台光刻机投入使用后,中芯国际将大力投入10nm、7nm工艺的研发,由于联电和格芯已经宣布放弃了7nm以及以后高级工艺演进,所以未来中芯国际有望在7nm以下高级工艺处于    全球领先地位,当然7nm工艺挑战极大,要迈过7nm工艺节点还需要大量资金投入。

不过,在半导体技术这场长跑路上,只要不掉队,就有获胜的可能!

(根据中芯国际最新财报分析整理)

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