半导体设备商诉讼大战开始,尼康起诉ASML和卡尔蔡司侵权

作者;电子创新网 张国斌 半导体领域的专利大战已经从IC领域延伸到设备领域,尼康今日宣布,已对荷兰半导体行业光刻系统供应商阿斯麦(ASML)和德国光学及光电子学设备厂商卡尔蔡司(Carl Zeiss)提起诉讼,指控这两家公司未经授权而使用其光刻技术。尼康称,已在荷兰、德国和日本对阿斯麦和卡尔蔡司提起诉讼。卡尔蔡司是阿斯麦的光学设备供应商。尼康在一份声明中称:“阿斯麦和卡尔蔡司在未经尼康许可的前提下,在阿斯麦的光刻系统中使用尼康的专利技术。” 当前,光刻系统被广泛应用于制造半导体,而阿斯麦又主导着半导体光刻机市场。评级机构“惠誉评级”(Fitch Ratings)今年1月发布的调研报告显示,在高端光刻机市场,阿斯麦的份额高达90%。 尼康在诉讼文件中称,要求阿斯麦和卡尔蔡司对未授权使用专利技术而做出赔偿。对此,阿斯麦总裁兼CEO彼得·温尼克(Peter Wennink)称:“尼康的诉讼毫无依据,没有必要,为半导体市场制造了不确定性。”温尼克还称,阿斯麦曾多次试图与尼康谈判,希望能对当前的一份交叉授权协议进行延期。 10nm工艺节点即将大规模普及,同时这也意味着我们很快进入7nm阶段,不过,7nm的技术挑战已不可同日而语,其中的关键就是EUV(极紫外)光刻机。下图是荷兰ASML公司颠覆时代的EUV光刻机NXE 3350B示意图,单价超过6亿人民币,现货还要等。
半导体设备商诉讼大战开始,尼康起诉ASML和卡尔蔡司侵权
在当今高端沉浸式光刻机中荷兰ASML(阿斯麦)占据80%的份额,是绝对的龙头。近日,阿斯麦也公布了财报数据,Q1净营收为19.4亿欧元,毛利率47.6%,而它们所做的一切,不过是卖出数十台光刻机而已。 其中主要包含三部分,分别是深紫外光(DUV)微影、全方位微影(Holistic Lithography)和极紫外光(EUV)微影,前者用于10nm量产和7nm的研发,迄今累计装机60多台。 而最高端的EUV光刻机,仅仅在Q1晚些时候出货了第一台NXE:3400B,而收到的订单已经累计21台,总价值23亿欧元,单价超1亿欧,媲美一架F35战斗机。 这第一台的客户如无意外应该就是Intel,而后者目前用的最多的还是前一代EUV系统NXE 3350B,即使这样,全球也才部署了6套而已,供不应求。 在半导体领域发展就是一条长跑路,因为技术在不断进步,所以只有不断的投入不断的创新才有出路,ASML CEO Peter Wennink在接受媒体采访时曾表示创新和开放是ASML成功的秘诀---从飞利浦分拆以后,由于经费紧张,因此ASML和供应商一起分享利润,并通过和利时校际微电子研究中心(IMEC)合作了解IC最新发展和需求,而且不同于尼康,ASML 80%零部件外购因此获得了最新的技术,由于有创新,ASML一举击败尼康占据高端沉浸式光刻机龙头,这些经验值得本土公司借鉴。 (部分内容来自网络)